Optilayer V2025是领先的薄膜软件！提供更专业的知识，丰富的经验以及先进的算法，帮助用户轻松进行涂层设计、分析以及性能分析过程的强大程序！提供对各种规格的设计，支持多层设计分析，具有自动化优势，且针对更复杂的要求和挑战都能轻松应对，对设计制造
OptiLayer V2025是领先的薄膜软件！提供更专业的知识，丰富的经验以及先进的算法，帮助用户轻松进行涂层设计、分析以及性能分析过程的强大程序！提供对各种规格的设计，支持多层设计分析，具有自动化优势，且针对更复杂的要求和挑战都能轻松应对，对设计制造进行预测和评估，获得满意的结果。
新功能
1、为UDT增加了扩展参数（作数）选项。它允许引入相对于当前波长和入射角的不同波长和角度的任何光谱特征。新光谱特征的参数与当前波长和入射角线性关系相关。更重要的是，可以在不同的环境中定义新的扩展作数（参数）。因此，OptiLayer 可以通过这一新选项来表述和解决许多新类别的问题。
2、新增了Integral Specifications数据库。积分和值窗口展示了积分与指定极限的关系。在良率分析中，如果集成规范加载到内存中，积分规范用于估算一般的良率值。
3、模型层材料的线性不均匀性可在层材料编辑器的单独标签页中输入。当材料非零不均匀性被加载到内存时，非均匀因子作为非均匀评估和细化的默认值。此外，OptiChar和OptiRE在所有非均匀性相关选项中也采用了它。
4、非均匀性/层间模式的改进和漏洞修复。特别是新增了不均匀设计预览。不均匀材料因素被正确用于新设计，覆盖零不均匀水平。现在可以在设计编辑器中编辑不均匀性/层间设置，并可选链接到相应层材料的非均匀性级别。
5、在公式约束优化中增加了随机化选项。当该选项激活时，对于每个整数参数组合，都会进行随机多重起始优化。尝试次数是可以自定义的。
6、增加了对称设计模式，允许将设计视为相对于其中心点的对称。这种方式尤其适用于浸渍涂层，当最终涂层由两个部分通过光学胶连接而成时。
7、导出为ODX、导出至LMR和导出为LZH格式，这些功能已添加到COM接口中。
8、UDT 编辑器得到了改进：现在即使 UDT 定义已加载为当前目标规范，也可以重命名和删除它们。
9、GetCharArrLastLayer COM功能现在在加载到内存中的背面涂层时可以使用。
10、导出到LightTools，作为添加的设计文件。
11、积分与值窗口：现在可以通过工具栏控制或右键菜单“上”和“下”来上下移动选定的行。
12、UV-Vis 公式扩展，并添加一个常数吸收项。目前该术语应用于调整一个小的吸收率。
13、UDT中的扩展论点——数字化支持，增加了误差和产量分析。
14、在从目标规范转换为频谱规范时，默认使用规范编辑器中的限定符设置。
15、在从目标转换为规范的过程中，目标生成器的设置也会被复制。它们还会根据规范生成器格式进行调整。
16、变速器中新增了修正因子选项。它能够估算工装因素对涂层性能的影响。
17、现在也支持导出为PCX格式的64位模式。
18、在导出PDF文件时（从图表设计器右键导出菜单）时的问题（访问违规）已修复。
19、将COM作记录为实现的文本文件。它可以通过自动化控制OptiLayer极大简化系统的开发和管理。
20、“连续相位”选项仅全局应用（设置 -> 轴 -> 相位 -> 连续相位）。这个问题已经修复，这个选项可以全局应用到所有窗口和图，或者本地应用到当前打开的窗口。请注意，全局应用的“连续相位”选项也会影响合成算法。
21、在某些情况下，过滤设计选项生成的图层中状态为空。修复了。
22、现在可以通过通用配置对话框中的“数据”标签（无预览复选框）完全隐藏数据库预览窗口。
23、可以评估与目标互补特征的颜色。对于非吸收涂层来说，它很方便，因为透射率可以通过反射推导颜色，反之亦然。
24、Re（n） 和 Im（n） 的可选预览添加到基底和层材料数据库中。这些列可以通过“列......”来激活。右键点击数据库对话框的菜单。此功能对大型数据库尤其有用。
25、“包含头部”选项添加到复制特殊对话框中。它对在 Windows 剪贴板中创建的数据中是否包含数据头提供了额外的控制。在某些情况下，没有头部的数据更适合直接立即粘贴到不同的电子表格中。
26、复合鲁加特（即鲁加特层与普通层的组合）的合成得到了改进。之前版本的代码在处理如此复杂的情况下存在计算问题，在最新版本中这些问题得到了修复。
27、新增了COM接口功能，用于配置以多边形表示的色彩范围目标。
28、对称模式扩展为受限优化、随机优化、渐进演化
29、过滤器设计：修复与“使用外部目标”选项相关的漏洞和不一致。现在它允许使用更广泛的目标。
30、LEC21D1例补充。它演示了Rugate合成选项。
功能特色
1、分析
OptiLayer 可以评估多种光学涂层特性：
反射率、透射率、吸收率、椭圆角、群延迟、群延迟色散、相位、差分相位移
对应于用户定义目标的用户定义频谱特征
谱特征的积分值和平均值
色彩属性（所有现有色彩系统的颜色坐标、色彩图、色彩还原指数、色彩差异、色彩误差分析、色彩斑块）
U值和g值
电场分布（EFI）)
不同形式的折射率曲线
鲁加特
误差分析
图层敏感性
系统性偏差
界面粗糙度
不均匀性/夹层
脉冲分析（即将推出！）
物质扩散
堆叠评估——厚介质组，每个边界可选涂层
实时评估光谱特性，包括层厚度变化和光学常数（变速器）
锥形/波前
2、自动设计选项
OptiLayer的精炼算法、针头优化自动模式和默认的渐进演化模式，即使你没有光学涂层设计的特殊经验，也能解决最复杂的设计问题。
起始设计的选择对针头优化设计过程来说并非关键。完全可以从任意的起始设计开始该程序，例如单层。
可以使用随机优化或非齐次细化选项来获得一组起始设计。
最重要的参数是起始设计的整体厚度。准确估算该厚度也并不重要，因为渐进演化会自动增加设计厚度，并生成一组层数递增、优点函数值递减的设计。因此，可以获得一套设计方案。
光学涂层工程师可以选择最易制造的产品。OptiLayer 提供仿真工具（BBM 和单色监测模拟器）以及统计误差分析，帮助您选择适合生产的设计。
将程序的多种设计模式结合起来，有助于解决复杂的设计程序。
所有设计都存储在相应的数据库中，称为历史数据库。这一功能为设计过程增添了灵活性，因为你可以轻松回到设计流程的前一步，尝试应用其他设计方法。
3、高级设计技术
OptiLayer 提供的优化过程支持多种综合策略来解决复杂的设计问题。积累该项目经验将帮助你制定自己的策略。
渐进演化（高级模式）扩展了针头优化技术在寻找最易制造设计方面的潜力。该模式能够生成一组设计，其主要参数组合包括优点函数值、设计层数、总设计厚度等。
这个选项可以帮助你合成金属介电涂层。
除了基于针优化技术的多种选项外，OptiLayer 还具备其他非局部设计技术：非齐次细化和随机优化。
这些技术在解决特定的现代设计问题中非常有用，例如设计增益平坦滤波器。
OptiLayer 允许设计具有指定颜色特性的涂层。
专门为WDM滤波器设计开发了极高效的自动设计技术。与OptiLayer几乎所有其他设计选项一样，WDM选项基于其他薄膜程序无法获得的独特技术。
设计目标可以选择光谱模式或角度模式。第二种模式适用于设计目标在角度范围内指定时。
4、OptiLayer 监控选项概述
随着光学涂层设计的先进水平，可靠的生产监控成为许多应用领域成功的关键。存在多种不同的监测方法。
监测技术的主要细分为非光学技术（石英晶体监测和时间监测）和光学监测技术。
光学监测技术可以细分为单色监测（在线测量在单一或多个后续波长进行）和宽带监测（在线测量在光谱范围内进行）技术。
单色监测策略为四分之一波设计提供了强的误差自补偿。 对于非四分之一波设计，则需要更复杂的单色监测策略。
宽带监控（BBM）数据噪声更大，但信息量更大。BBM提供错误自补偿效应。
BBM技术的生产潜力近三十年前首次被展示。宽带光学监测对于具有在线重新优化光学涂层的沉积系统尤其有用。
单色光学监测仍是重要且广泛使用的工具。OptiLayer 提出了一种算法，用于为所有涂层层选择合适的监测波长序列（监测策略）。
监测技术可分为直接监测和间接监测。在直接监测中，至少对其中一种待制造涂层进行透射或反射测量;而在间接监测中，则在不同的见证基板上监测层厚。
在直接监控的情况下，错误会被累积。
在间接监控（使用见证芯片的监控）中，错误不会被累积。 同时，样品厚度与见证玻璃厚度之间的相关因素也被高度准确地了解。
OptiLayer 监控选项包括：
宽带监控模拟;
监控电子表格规范;
先进的单色监测策略;
单色监测模拟;
单色监测与证人芯片（间接监测）;
带见证芯片的宽带监控;
前制作误差估计;
WDM监测模拟。
OptiLayer 自动化选项和 OptiReOpt 库提出了用于在线表征和再优化光学涂层的工具。
5、栈的分析/设计
堆叠是一组厚介质，每个边界处可选择涂层。每种介质的厚度足够大，可以将光反射视为非相干。每种介质可以是平行的（所有反射都被考虑）或楔形的（反射光远离系统的光路，不被考虑）。
OptiLayer 允许你设计栈。为此，采用与单侧涂层相同的设计技术（针头优化、渐进演化、细化等）。
示例：堆叠中多层防反射涂层的设计。未涂防反射涂层的堆栈平均残余反射率约为20%。在基材表面添加防反射涂层可将反射率降低至5%。
从9.96版本开始，针对覆盖光学涂层的基材堆叠的OptiLayer选项变得更加灵活：
如果使用堆栈而非单一设计，则合成菜单中的“修改设计”选项将被“修改堆栈”选项取代。现在这个选项允许你修改堆栈中使用的设计。
Stack编辑器中新增了“交换”命令。当选择了某个媒介的作曲堆栈时，可以通过右键菜单访问。这个命令允许你更换围绕选定介质的涂层。
隐藏选项已被添加到堆栈编辑器的状态栏中。这个选项允许你暂时排除处于隐藏状态的涂层，而无需实际移除它。
6、环境管理器
环境管理器让你有机会同时设计多个环境的涂层。对于每个环境，可以定义不同的靶材、颜色靶、光源、探测器、入射介质、基底、背面状态、基底厚度以及背面涂层的存在。同样，也可以为同一索引缩写定义不同的材料。
闪电小编说明：
在光学涂层设计、分析、后期生产特性分析及光学涂层生产在线支持方面的领先解决方案！功能齐全，对多种光学涂层特性进行分析和评估，提供更多自动化设计选项，且使用非常友好，对于没有丰富经验的新手朋友也非常友好，轻松解决复杂的问题，提供高级设计技术，支持多种综合策略，丰富的监控选项随时监测发现问题。
Optilayer V2025.12 最新
Siemens Designcenter NX 2512.1
PV Elite 28.0 2026最新授权 支
Altair HWDesktop 2026.0 x64
Altair HW FEKO 2026.0 x64
Altair Mechanical Solvers 2026
Thermo Calc x64 2024.2