Siemens EDA（前身为Mentor Graphics）是IC设计、验证和制造领域的领导者。我们的工具使客户能够设计出推动全球数字化的创新IC，推动高速有线和5G通信、云计算、自动驾驶和人工智能智能一切的普及。

Calibre Design Solutions 是 IC 验证的行业领导者，这得益于 Calibre nmPlatform 的卓越性能、准确性和可靠性。与代工厂、IC设计公司和行业标准组织的密切合作，确保Calibre工具不断提供满足或超过最先进要求的创新功能，并提供真正的竞争价值。

Calibre是最受欢迎的工具之一，被设计组织和铸造厂广泛使用。Calibre具有不同的模块，可在流片后执行各种功能。流片后工作流程的挑战是保持对高晶圆良率的严格控制，这将导致掩模时间和运营成本的降低。虽然来自模块的一些工作负载（例如 OPC 前阶段的散射条和偏差）是内存密集型的，但从 PM、OPC 和 MDP 生成的工作负载是延迟密集型的。他们依靠存储、网络和计算基础架构的性能来支持和补充 Calibre 的速度和质量。

Calibre 是片上硅 （SoC） 制造工艺中最常用的工具之一。该过程处理从Calma图形数据系统（GDSII）到掩模流的工作流程的不同部分，提供高晶圆良率并降低运营成本。芯片设计公司提供的输入文件包括SoCsin的物理细节GDSIIorOpen Artwork System Interchange Standard （OASIS）格式。虽然 Calibreas 应用程序正在得到更多优化以减少屏蔽时间，但底层存储基础架构在周转时间 （TAT） 方面也起着重要作用。基础结构由网络文件共享存储、网络层和计算场组成。NetApp 存储主要用于将 GDSII/OASIS 文件和知识产权文件存储在 Calibre 通过网络文件系统 （NFSv3） 从计算场节点访问的共享文件系统中。

提供更快更效率的处理，大幅度提升验证的速度，丰富的功能和选项，灵活的选择和是哟个，提供操作简单的全自动阶层分析与最佳化能力，