1、Siemens EDA（前身为 Mentor Graphics）是 IC 设计、验证和制造领域的领导者。我们的工具使客户能够设计推动全球数字化、高速有线和 5G 通信、云计算、自动驾驶和人工智能更智能的一切的创新 IC。

2、由于 Calibre nmPlatform 的卓越性能、准确性和可靠性，Calibre Design Solutions 是 IC 验证的行业领导者。与代工厂、IC 设计公司和行业标准组织的紧密合作确保 Calibre 工具不断提供满足或超过最先进要求的创新功能，并提供真正的竞争价值。

3、Calibre 是设计组织和代工厂广泛使用的最受欢迎的工具之一。 Calibre 具有不同的模块，可在流片后执行各种功能。流片后工作流程的挑战是保持对高晶圆良率的严格控制，这将导致掩模时间和操作成本的减少。虽然来自模块的一些工作负载（例如预 OPC 阶段的分散条和偏差）是内存密集型的，但 PM、OPC 和 MDP 生成的工作负载是延迟密集型的。它们依靠存储、网络和计算基础设施的性能来支持和补充 Calibre 的速度和质量。

4、Calibre 是片上硅 (SoC) 制造过程中最常用的工具之一。该工艺处理从 Calma 图形数据系统 (GDSII) 到掩模流程的工作流程的不同部分，提供高晶圆良率并降低运营成本。芯片设计公司提供的输入文件包括采用 GDSII 或开放艺术品系统交换标准 (OASIS) 格式的 SoCs 的物理细节。虽然 Calibreas 应用程序越来越优化以减少屏蔽时间，但底层存储基础架构在周转时间 (TAT) 方面也发挥着重要作用。基础架构由网络文件共享存储、网络层和计算场组成。 NetApp 存储主要用于将 GDSII/OASIS 文件和知识产权文件存储在 Calibre 通过网络文件系统 (NFSv3) 从计算场节点访问的共享文件系统中。

加快早期设计探索和验证，以加快上市时间，基于我们强大的、经过生产验证的Hyperscaling架构，Calibre提供了业内最广泛、最准确和性能最佳的DFM解决方案。